CMP后清洁解决方案行业调研：2022年全球CMP后清洁解决方案市场规模约13.23亿元-尊龙凯时 - 人生就是搏!咨询

CMP是先进集成电路制造中的关键使能技术。随后在CMP后清洁步骤中去除在平坦化过程中沉积或形成的可能对产品产率产生不利影响的缺陷和残留物。用于CMP后（PCMP）清洁的水性配方设计用于保护平坦化的金属和电介质，防止金属腐蚀，同时提供光滑的无缺陷晶片表面。

中国是最大的收入市场，2015年和2019年的市场份额分别为32.33%和33.96%，增长了1.63%。2019年，北美市场份额为19.04%，位居第二。

排名前三的公司是Entegris、Versum Materials（Merck KGaA）和三菱化学公司，2019年的收入市场份额分别为25.12%、21.32%和15.42%。

在不同的产品类型中，酸性材料部门预计将在2027年贡献最大的市场份额。


从应用来看，2017年至2022年，金属杂质部门占据了最大的份额。


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http://www.lstxf.com/reports/1638239-post-cmp-cleaning-solutions-market-report.html