EUV 掩模空白被定义为具有覆盖层但没有吸收掩模图案的多层结构。用于 EUV 光刻的掩模是反射式的，由多层结构组成，该多层结构由钼和硅双层膜、覆盖层和图案化吸收层组成，形成在由低热膨胀材料制成的 6 英寸玻璃基板上。 EUV 掩模坯料由基板上的 40 到 50 或更多交替的硅和钼层组成。掩模坯是在低热膨胀玻璃基板的抛光表面上沉积多种成分的光学膜的光掩模基板基板。它是EUV光刻技术的核心技术方面。
从地域上看，中国占据最大的市场份额——2022 年为 48.2%。
HOYA 是 EUV Mask Blanks 市场的主要参与者之一，2023 年占有 54.66% 的市场份额。
HOYA
Hoya 于 1941 年在日本东京成立，是一家全球性医疗科技公司，也是创新高科技和医疗产品的领先供应商。 Hoya 活跃于医疗保健和信息技术领域，提供眼镜、医用内窥镜、人工晶状体、光学镜片以及半导体设备、LCD 面板和 HDD 的关键部件。 HOYA 的先进技术支持包括个人电脑、液晶电视和智能手机在内的各种数字产品的开发。 HOYA 继续尖端技术创新，为富裕社会做出贡献。
AGC Inc.
AGC Inc. 制造和销售玻璃产品。公司生产建筑玻璃、汽车玻璃、应用玻璃材料等产品。 AGC 还生产电子产品、化学品和其他产品。 AGC运用在100多年的技术革新历史中培育出来的世界一流技术，在玻璃、电子、化学、陶瓷等事业领域不断创造新的价值。
市场最大的应用领域是 7nm 和 5nm 半导体工艺细分市场，2022 年市场份额为 96.18%。
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http://www.lstxf.com/reports/1626232-euv-mask-blanks-market-report.html
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