Mask Blank是半导体光刻工艺中使用的光掩模的核心部分。随着半导体技术的发展，需要高分辨率的光掩模来形成精细的图案，以及可以支撑它的空白掩模。 Mask Blank 是用作制作光掩模的材料的玻璃基板。由这些 Mask Blanks 生产的 Masks 用于半导体集成电路的光刻生产，并形成宽度为 40 纳米以下的超精细图案。 Mask Blanks是在主要石英或钠钙玻璃基板上由铬或硅化钼基薄膜形成的产品。它们涂有对电子或激光束敏感的光敏抗蚀剂材料，用于蚀刻工艺制作电路图案。
COVID-19 的爆发迫使政府当局采取严厉措施，将口罩毛坯生产和相关服务限制在封锁允许的范围内。与所有经济部门一样，掩模版制造商正在应对当前流行病带来的挑战。其中包括全球和国内供应链问题，例如海运瓶颈和卡车供应有限。由于COVID-19大流行扰乱了多家制造商的供应链，掩模坯料的生产受到限制，供需之间存在巨大差距。许多企业还面临流动性问题，这可能导致其生产设施完全关闭。由于供应链问题，产品在大流行开始时未能按时到达客户手中。公司不得不应对预期的价格上涨、交货延迟和全球不确定性。随着疫情逐渐得到控制，部分工厂开始复工。但企业在生产过程中需要保障员工的生命健康，比如采购口罩、消毒剂等防疫物资，生产前后对工作环境进行消毒，每天测量员工体温，以确保生产安全。员工的健康。这些措施都会增加生产成本，影响企业发展。
2022 年，日本 Mask Blank 市场份额为 35.71%。
Mask Blank市场的主要参与者包括HOYA、Shin-Etsu MicroSi, Inc.、AGC、S&S Tech、ULCOAT等。其中HOYA在2023年的销售额和收入方面排名第一。
HOYA
Hoya 于 1941 年在日本东京成立，是一家全球医疗技术公司，也是创新高科技和医疗产品的领先供应商。 Hoya 活跃于医疗保健和信息技术领域，提供眼镜、医用内窥镜、人工晶状体和光学镜片以及半导体设备、液晶面板和硬盘驱动器的关键部件。
Shin-Etsu MicroSi, Inc.
Shin-Etsu MicroSi, Inc. 是信越化学公司的美国子公司，已成为半导体和涂层行业材料研究、开发和制造的领导者。我们提供高性能产品和材料，旨在满足当今的光刻、包装、太阳能和柔性印刷电路的要求。
按类型划分，低反射率铬膜掩模空白细分市场在 2022 年占据最大市场份额。
从应用来看，2018年至2022年半导体领域占据最大份额。
查看报告目录
http://www.lstxf.com/reports/2259707-mask-blank-market-report.html
我们提供更专业明智的市场报告，让您的商务决策锦上添花。
